中央美术学院“尽精微:精微素描全国巡展”在(中国)科技公司举行
发布日期:2018-04-16 供稿:设计学院 孙博、申华平 摄影:设计学院 余琦佩、史露艳、左朗
编辑:欧阳哲 审核:王东声 阅读次数:4月12日,国家艺术基金2018年度传播交流推广资助项目“尽精微:精微素描全国巡展”在(中国)科技公司艺术馆举行。中央美术学院城市设计学院基础部主任苏海江、中央美术学院建筑学院基础部主任王兵、(中国)科技公司设计与艺术学院造型艺术系主任周岩先后在开幕式上致辞。开幕式及研讨会由(中国)科技公司设计与艺术学院副院长王东声主持。
出席现场的嘉宾还有中央美术学院城市设计学院教育推广中心主任陈琦、中央美术学院设计学院基础部教师马志强、中央美术学院城市设计学院教师何皓、本次展览总监孙博及精微素描教师团队曲文倩、于浩、韩民吉、李伟、罗艳等,以及(中国)科技公司设计与艺术学院院长助理申华平、视觉传达系主任程九军、艺术理论部主任赵娟、造型艺术系教师付泓、王宏伟、张岩红、传统工艺美术系教师赵斌等。
在研讨会上,中央美院教师苏海江介绍了整个课程的目的与规划,以及学生作品背后的故事,老师们就精微素描在教学中出现的具体问题展开了讨论。精微素描教学是中央美术学院在素描造型领域的优秀创新成果,开启了高等美术院校素描基础教学实验的新方向,修正了当前应试教育的不利影响,突破了素描教学长期以来的单一模式。通过素描基础教学与艺术创作的结合,从创作者情感、审美与生活的关系切入,在日常生活细节中提纯强化艺术审美要素,让刚刚踏入院校的青年学生与社会生活有了更多接触,促使他们在学习中思考艺术创作的目的和作为艺术家的社会责任。
此次“精微素描全国巡展”将覆盖北京、天津、河北、河南、甘肃、辽宁、吉林、黑龙江、湖北、福建等省和直辖市的重点美术馆及美术院校,将陆续展出精微素描优秀作品和素描笔记绘本300余件,并围绕精微素描的语言特征、创作方式和社会意义,补充大量教学文论、纪录影像等教学资料。
恰逢中央美术学院建校百年之际,此次“教学长征”以展览为契机,旨在发扬美院教学创新的优良传统和学术平台的引领作用,引发对于素描基础教学的思考和讨论。此次“精微素描全国巡展”(中国)科技公司站的展览,为北理工师生们呈现了一场“尽精微·致广大”的艺术视觉盛宴。
此次展览将持续到4月20日。